Investigadores de la Universidad Rice en Estados Unidos han creado un método revolucionario de fabricación de chips que utiliza la estructura cristalina de materiales para crear patrones a nanoescala directamente sobre materiales duros como la sílice, sin necesidad de altas temperaturas ni procesos químicos complejos. La técnica, publicada en Nature Communications, podría simplificar la producción de dispositivos fotónicos y optoelectrónicos de próxima generación.